应用材料与铠侠共研下一代存储 联合研发聚焦四大方向

IT时代网9月30日消息，据The Elec报道，应用材料宣布铠侠将加入其位于硅谷的EPIC中心，成为创新合作伙伴，双方将共同开发面向AI时代的下一代存储结构与材料。

EPIC中心是应用材料正在建设的半导体设备与工艺创新联合研发设施，旨在大幅缩短半导体技术从研究到量产的周期。铠侠将借此快速获取应用材料最新研发设备与技术，应用材料也将通过联合创新计划获得多工艺视角。

联合研发聚焦四个方向：面向AI大容量存储的先进存储单元与结构、下一代存储的多芯片堆叠技术、提升多芯片复杂堆叠互连性能与集成密度的先进封装技术，以及面向大规模量产的下一代存储材料工程。

包括三星电子、SK海力士、美光、台积电、博通在内超10家公司与机构参与EPIC中心，设施已进入运营前最终准备阶段，开幕式定于10月12日举行，未来总投资规模达50亿美元。

编辑：林一舟