蔡司高管称中国还需约15年才能造出EUV光刻机

IT时代网9月3日消息，ASML EUV光刻机光学元件独家供应商、德国蔡司集团半导体事业负责人Frank Rohmund近日接受采访时表示，中国要开发出EUV光刻机大约还需要15年。他称这是一个合理的推测，同时坦言中国在该领域的实际进展难以量化。

ASML是目前全球唯一能制造EUV光刻机的企业，EUV技术是生产先进AI芯片不可或缺的关键环节。美国已禁止ASML向中国出口EUV设备和部分先进的浸润式DUV光刻机。

对于出口管制措施，Rohmund明确表示，若进一步扩大至传统DUV设备将对产业造成不利影响，“我们不相信这些出口管制会带来正面效果，因为这反而会加速中国的创新”。这一判断与ASML CEO富凯此前的表态一致——收紧对华出口管制，会加速中国自主研发替代设备的步伐。

蔡司方面也承认，中国在浸润式DUV光刻机领域已取得进展，有外媒7月报道称一家总部位于上海的公司已开始制造这类设备。Rohmund对此表示，中国已投入相关技术研发数十年，近期取得进展并不令人意外，“现在我们必须观察这些设备实际上究竟有多大的能力，因为我们目前仍遥遥领先”。蔡司为全球约80%的芯片供应光学元件，ASML于2017年以10亿欧元收购了蔡司半导体事业的少数股权。

注：本文中包含AI辅助创作的内容。