海思半导体8英寸全自动光刻机完成验收发运

IT时代网10月14日消息，江苏海思半导体的一台8英寸全自动掩模对准光刻机于10月13日完成出厂调试与客户验收，正式装车发运。该设备主要用于硅基Micro LED晶圆图形化制程，将设计图形转移至晶圆表面。

这台光刻机面向8英寸即200毫米晶圆，配备双SMIF自动天车上下料系统及两套独立双机械手传输系统，可支持晶圆自动传输与批量化运行。正面掩模对准精度优于正负0.5微米，可选配背面对准模块，对准精度优于正负2微米。

设备采用全自动三点式气悬浮找平技术，能够适应薄片及翘曲晶圆的曝光需求。这一特性对Micro LED制造尤为关键，因为硅基晶圆在多次工艺处理后容易产生形变，传统找平方式难以保证曝光精度。

资料显示，江苏海思半导体主要布局接近式与接触式光刻设备，核心团队拥有15年黄区光刻工艺经验，2019年首台1微米级全自动接触式光刻机实现规模商用，2023年商用步进式光刻机上市。公司目前在苏州、成都设有生产基地，产品覆盖2至12英寸晶圆单面及双面对准光刻设备，应用于MEMS、集成电路、化合物半导体、功率器件、3D封装、AR及Micro LED等领域。

注：本文中包含AI辅助创作的内容。

编辑：林一舟