俄罗斯完成130nm光刻设备样机

IT时代网10月6日消息，据CNews报道，俄罗斯已完成一台面向130nm工艺的国产光刻系统样机，相关项目主要由总部位于泽列诺格勒的ZNTC负责。

Strategy Partners分析师亚历山大·米哈伊洛夫表示，这台国产光刻系统样机的问世是俄罗斯微电子行业的重要里程碑，说明俄罗斯具备了开发此类设备所需的工程能力，也为研制90nm、65nm等更先进节点的一整套系统铺平了道路。

CNews看到的文件显示，虽然项目由ZNTC总负责，但光刻系统本身由位于白俄罗斯的Planar公司开发，该公司还负责机械组件与零件的制造以及样机的调试。光源由Lassard研发。ZNTC则负责整体系统开发、测试与工艺设备设计、投影镜头计算以及工艺建模与开发。俄罗斯工业和贸易部为整个研发计划拨款约7000万美元。

据报道，一台130nm级ZNTC步进机的成本约670万美元，其激光光源约60万美元，单台设备总成本约730万美元。作为对比，这一数字与现代先进光刻设备的差距相当明显，有分析认为俄罗斯在该领域落后现代设备约25年，量产仍需数年时间。

编辑：林一舟