台积电明年大幅扩充2nm和3nm产能

IT时代网9月14日消息，据Chosun报道，台积电计划明年大幅扩充2nm与3nm先进制程产能，以应对AI半导体需求持续攀升。

据悉，台积电2nm制程月产能预计从今年底的9万片提升至明年年中的11万片，增幅约22%；3nm制程月产能将从去年底的每月12万至13万片，在今年底达到18万片，并到明年年中进一步升至21万片。

为扩充产能，台积电除在中国台湾地区建设3nm晶圆生产线外，也在美国亚利桑那州与日本同步布局，并计划将部分5nm产线转换为3nm。随着先进制程投资加码，台积电明年营收有望再创新高。

台积电同时加速下一代精细制程研发，继A16之后正开发A14、A13与A12等技术，并与光刻设备厂商合作推进12英寸光罩导入。

台积电方面对相关报道不予直接评论，表示产能信息应以公司官方公告为准。

编辑：林一舟