三星与ASML扩大先进制程合作

IT时代网9月8日消息，据海外媒体报道，三星电子与 ASML 宣布扩大长期战略合作，围绕 High-NA EUV 光刻与先进半导体制造技术深化协作，为 AI 时代的下一代芯片创新提供制造支撑。

两家公司的合作已延续多年，此番扩围后，双方将共同加速相关技术的开发与落地，应对先进制程对性能和能效不断抬升的要求。

High-NA EUV 被视为 2nm 以下节点的关键设备，三星此前已将其引入研发体系，本次合作深化意味着协作范围从设备引入向制造工艺纵深推进，具体节点安排双方未在本次公告中披露，以官方后续公布为准。

编辑：林一舟