中微薄膜沉积设备累计出货破500台

IT时代网8月27日消息，中微公司近日宣布，其先进薄膜设备累计出货正式突破500个反应台，覆盖低压化学气相沉积、金属薄膜沉积、介质薄膜沉积等多款核心机型，基本满足主流薄膜沉积工艺需求，意味着高端薄膜装备已完成规模化商用布局。

薄膜沉积是先进逻辑、存储与先进封装环节都绕不开的核心装备。中微已构建起覆盖钨薄膜、金属栅、金属硅化物的先进薄膜组合，并适配先进制程的严苛工艺。在钨金属沉积方向，中微自研的CVD-W、HAR-W与ALD-W已拿下多家核心存储客户量产订单。

截至今年6月底，中微累计开发54种高端设备，超过8800个反应台在220余条产线实现量产，刻蚀与薄膜精度达到原子级。公司连续14年销售年均增速保持在35%以上，设备覆盖超过三成前道集成电路设备。往后看，中微计划通过自主开发与外延并购，在五年内外延覆盖六成以上集成电路高端设备与七成以上先进封装市场。

注：本文中包含AI辅助创作的内容。